產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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熱陰極直流等離子體化學... 熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
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卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
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PECVD-R?旋轉等... 本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
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PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐，一套鎢絲蒸發源，一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
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PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應...
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單溫區旋轉PECVD石... 單溫區旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
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等離子增強CVD系統 等離子增強CVD系統由等離子發生器，三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反...
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等離子增強型CVD系統 CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量...
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真空高溫超聲波熱解噴涂 噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以...
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高溫超聲波熱解噴涂 超聲波熱解噴涂此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。現在這種方法在制備鈣鈦礦...
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自動超聲波熱解噴涂 自動超聲波熱解噴涂制膜法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史?，F在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽...
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高通量超聲波熱解噴涂 高通量超聲波熱解噴涂是通過在加熱的表面上噴涂溶液來沉積薄膜的過程，在該表面上，成分發生反應以形成化合物,用于電池電極和鈣...
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超聲波熱解噴涂機 噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質結構。本設備是由我公司自主研發的一款超聲噴霧...
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桌面型超聲波熱解噴涂機 超聲波熱解噴涂機是由我公司自主研發的一款超聲噴霧熱解設備，超聲波熱解噴涂機配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID...
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自動超聲噴霧熱解涂膜機 自動超聲噴霧熱解涂膜機是一種臺式超聲噴霧熱解設備，其中諸如溶液的分配速率和噴頭移動速度的參數由軟件界面準確控制。自動超聲...
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火焰輔助噴霧熱解設備 火焰輔助噴霧熱解設備用于研究金屬合金和陶瓷的表面質量。 噴霧熱解是通過在加熱的表面上霧化和噴霧溶液來沉積薄膜的過程，其中...
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大型超聲噴霧熱解涂層裝... 大型超聲噴霧熱解涂層裝置可為噴頭提供更大的容量和更大的行程區域。這也為噴涂大于標準應用的基材提供了更大的加熱平臺。大型超...
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真空噴霧熱解涂膜機 真空噴霧熱解涂膜機是一種自動噴霧熱解設備，帶有不銹鋼腔和熔錫槽加熱器。真空噴霧熱解涂膜機包括三個壓縮氣體噴頭以實現多層薄...
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高通量噴霧熱解系統 高通量噴霧熱解系統是一種高通量的噴霧熱解系統，它具有三種類型的溶液和涂層，不同的組合組合為18mm直徑的程序。基板zui...
