卷對卷式PECVD是一套卷對卷石墨烯制備管式爐系統,設備由卷對卷銅箔收放密封裝置、1200°C三溫區管式爐、 真空機組3部分組成。此設備可用于大面積、高質量石墨烯及其他二維材料的規模化生長。

卷對卷式PECVD應用范圍：

計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發光設備和其他薄膜電子產品領域。

卷對卷PECVD技術參數：

性能指標和基本配置
產品名稱	卷對卷式PECVD
產品型號	CY-OTF-1200X-III-PE300-RR
1000W等離子源	● 輸出功率：50-1000W*大可調±1% ● RF頻率： 13.56MHz，穩定性±0.005% ● 噪聲：≤55DB ● 冷卻：風冷 ● 輸入功率：1KW  AC 220V
三路質子流量計控制系統	● 電壓：AC220V/50Hz ● 功率：23W ● PLC觸摸屏控制 ● 混氣罐尺寸：φ80*120mm ● 工作溫度：5~45℃ ● *大壓力: 3x106 Pa ● 精度: ±1.5% FS ● 線性: ±（0.5-1.5）%F.S. ● 重復精度: ±0.2%F.S. ● 流量范圍: ● 一路: 1~50 SCCM （甲烷標定） ● 二路: 1~200 SCCM （氫氣標定） ● 三路: 1~200 SCCM （氬氣標定） 氣體種類標定根據客戶要求可以進行其它選擇
真空測量單元	● 型號：PCG-800 ● 顯示范圍：3.8E-5 to 1125 Torr 精度： ● 5×10-4 … 1×10-3 mbar (N2) % of reading ±50 ● 1×10-3 … 100 mbar (N2) % of reading ±15 ● 100 … 950 mbar % of reading ±5 ● 950 … 1050 mbar % of reading ±2.5
低真空機組（標配）	● 由雙旋機械泵、雙層立式油霧過濾器（PE材質）、電阻真空計以及連接管道接頭等組成 ● 真空泵抽氣速率≥4.4L/s ● 極限真空度10-1Pa ● 真空計測量范圍10-1Pa-105 Pa
卷對卷銅箔收放密封裝置	● 采用卷對卷收放卷機構進行銅箔的移動進出料，銅箔的移動速度為1-400mm/min可調； ● 配置一卷測試銅箔 ● 收放卷機構別放置于管式爐兩端真空腔體內，保證銅箔可在密封生長條件下進行運動，實現大規模制備 。 ● 收卷機構與管式爐之間設置冷卻裝置用于銅箔的快速冷卻。
產品尺寸	大約2400*800*1250mm
產品重量	大約720kg
質量認證	電器元件可選擇通過CE認證
保修期	一年保修，終身技術支持。 特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。