- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
該設備主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內(nèi)的旋轉，以達到粉體表面均勺包覆的效果。
腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。粉體包覆是指將一種或多種粉體顆粒投入到包覆設備中,通過物理或化學方法形成一層覆蓋在顆粒表面的物質(zhì)。粉體包覆的目的可以是改變顆粒表面
的性質(zhì)、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。
多功能粉體包覆機應用領域：
1.新能源材料：
用于鋰電池正負極材料（如鈷酸鋰、硅碳負極）的表面包覆，提升導電性、循環(huán)穩(wěn)定性及anquan性。燃料電池催化劑的表面改性，增強催化活性和抗腐蝕性。
2.電子陶瓷與半導體：
對陶瓷粉體（如Al?O?、SiC）進行金屬或絕緣層包覆，改善介電性能或導熱性。半導體粉體（如硅粉）的鈍化處理，減少表面缺陷。
3.生物醫(yī)療：
yaowu粉末的緩釋涂層（如聚合物或金屬薄膜），控制yaowu釋放速率。生物相容性涂層（如羥基磷灰石）用于骨修復材料。
4.航空航天與jungong：
高溫合金粉體（如鈦合金）的表面抗氧化涂層，提升耐高溫性能。隱身材料的吸波涂層（如碳粉包覆磁性薄膜）。
5.化工與催化：
催化劑載體（如分子篩、活性炭）的金屬納米顆粒包覆，提高反應效率。防團聚涂層處理，改善粉體流動性。
多功能粉體包覆機產(chǎn)品特點：
1.高均勻,致密性；
2.廣泛材料適應性；
3.可控性強；
4.環(huán)保與anquan性；
5.高效批量處理；
6.界面結合力強；
配備紅外加熱模塊，可實現(xiàn)快速升溫
多功能粉體包覆機技術參數(shù)：
產(chǎn)品名稱
多功能粉體包覆機
產(chǎn)品型號
CY-MSH150-I-RF-Q
控制系統(tǒng)
顯示模式
7英寸觸控屏
磁控濺射
靶材尺寸
2英寸
靶槍類型
標準磁場
適合靶材
非磁性金屬靶材
濺射類型
直流濺射
濺射真空
0.5Pa
濺射速率
以銅為例：7nm/min
膜層厚度
≦1微米
膜均勻性
±3%
樣品粒度
zui佳尺寸范圍：
樣品總量
≦500g
烘烤系統(tǒng)
烘烤溫度
≦500℃任意可設置
升溫速率
≦50℃/S任意可設置
控溫精度
±1℃
控溫模式
可編程，程序控溫
旋轉升降
旋轉速度
0-100RPM任意可設置
升降角度
0-60°任意可設置
等離子體
射頻功率
150W(另有：300W,500W,600W,1000W,1500W多種規(guī)格可選購）
功能效用
粉體包覆前，可先對粉體進行表面刻蝕，改性，增強包覆層附著力。
供氣系統(tǒng)
氣體種類
可通：氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體
氣體控制
采用質(zhì)量流量控制器對氣體進行流量控制、氣體計量。
真空系統(tǒng)
前級泵
通常為雙極旋片泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型前級泵。
分子泵
通常為國產(chǎn)分子泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型分子泵。
真空計
復合真空計，量程為：10-5Pa～105Pa
水冷機組
zui大流量10L-16L，zui大揚程10-25M
供電電源
AC220V/50Hz
設備尺寸
1800*620*1050
包裝尺寸
1900*720*1150
包裝重量
200kg
隨機配件
1、說明書1本
2、隨機配件1套
3、配件清單1份
