產品名稱：三靶磁控濺射鍍膜儀

產品簡介：CY-MSH300-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。 

技術參數：

項目		明細
產品型號		CY-MSH300-III-DCDCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
系統真空		≦5×10-4Pa
樣品臺	外形尺寸	φ150mm
	加熱溫度	≦500℃
	控溫精度	±1℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ300mm，高度500mm
	腔體材質	SUU304不銹鋼
	觀察窗口	直徑φ100mm
	開啟方式	頂開式
氣體控制		1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統		配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量		可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源500W*2,射頻電源500W
控制系統		CYKY自研專業級控制系統
設備尺寸		600mm × 650mm × 1280mm
設備重量		350kg