產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱(chēng):?jiǎn)伟写趴貫R射鍍膜儀

        • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH270-I-RF-Q
        • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:成越科儀
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡(jiǎn)單介紹:
        本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。單靶磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時(shí),可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據(jù)客戶(hù)需要配置可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、加熱型樣品臺(tái)、多功能樣品臺(tái),整機(jī)性?xún)r(jià)比高,是制作各種金屬(或非金屬)薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空系統(tǒng)。我公司還可根據(jù)客戶(hù)具體需要定制單靶磁控濺射鍍膜儀。
        詳情介紹:

        本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。鍍膜時(shí),可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據(jù)客戶(hù)需要配置可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、加熱型樣品臺(tái)、多功能樣品臺(tái),整機(jī)性?xún)r(jià)比高,是制作各種金屬(或非金屬)薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空系統(tǒng)。
        技術(shù)參數(shù)

        項(xiàng)目

        明細(xì)

        產(chǎn)品型號(hào)

        CY-MSH270-I-RF-Q

        供電電壓

        AC220V50Hz

        整機(jī)功率

        3KW

        系統(tǒng)真空

        5×10-4Pa

        樣品臺(tái)

        尺寸

        150mm

        加熱溫度

        500

        旋轉(zhuǎn)速度

        1-20r/min

        控溫精度

        ±1

        磁控濺射頭

        數(shù)量

        2英寸 x1

        冷卻方式

        水冷

        真空腔體

        腔體尺寸

        φ270mm X 200mm

        觀(guān)察窗口

        全向可視

        開(kāi)啟方式

        頂蓋拆卸式

        腔體材料

        高純石英

        真空系統(tǒng)

        機(jī)械泵

        CY240

        抽氣接口

        KF16

        抽氣速率

        1.1L/s

        分子泵

        CY600

        抽氣接口

        KF40

        抽氣速率

        600L/s

        排氣接口

        KF40

        真空測(cè)量

        電阻規(guī)+電離規(guī)

        供電電源

        AC;220V 50/60Hz

        氣體控制

        1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

        膜厚測(cè)量

        可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

        控制系統(tǒng)

        CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

        電源配置

        直流電源數(shù)量

        1臺(tái)

        輸出功率

        500W

        輸出電壓

        600V

        響應(yīng)時(shí)間

        5ms

        射頻電源數(shù)量

        1臺(tái)

        輸出功率

        1000W

        功率穩(wěn)定度

        5W

        測(cè)量精度

        ±0.5%

        測(cè)量速度

        100~1000ms

        測(cè)量上限

        50000


        1、有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度,需要多次濺射鍍膜。在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請(qǐng)?jiān)跒R射前用超聲波清洗基材表面。

        2、基材清洗方式

        (1)丙酮超聲清洗→異丙醇超聲清洗去除油脂→吹氮?dú)飧稍铩婵蘸嫦涑ニ?/span>

        (2)等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物制造一個(gè)薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力此濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射。

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