產品詳情
        • 產品名稱:三靶向上磁控濺射鍍膜儀

        • 產品型號:CY-MSH325X-DCDCRF-SS
        • 產品廠商:成越科儀
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
        詳情介紹:

        三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備,具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。

        三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:

        項目

        明細

        產品型號

        CY-MSH325X-DCDCRF-SS

        供電電壓

        AC220V50Hz

        整機功率

        6KW

        系統真空

        5×10-4Pa

        樣品臺

        外形尺寸

        φ150mm

        加熱溫度

        750℃

        控溫精度

        ±1

        可調轉速

        20rpm

        磁控靶槍

        靶材尺寸

        直徑Φ50.8mm,厚度3mm

        冷卻模式

        循環水冷

        水流大小

        不小于10L/Min

        靶槍數量

        3

        真空腔體

        腔體尺寸

        直徑φ325mm,高度600mm

        腔體材質

        SUU304不銹鋼

        觀察窗口

        直徑φ100mm

        開啟方式

        前面開啟

        氣體控制

        1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

        真空系統

        配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

        膜厚測量

        可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

        濺射電源

        直流電源功率500W*2,射頻電源功率300

        控制系統

        CYKY自研專業級控制系統

        真空計

        電阻規真空計

        設備尺寸

        1090mm×900mm×1250mm

        設備重量

        350kg



        豫公網安備 41019702002438號

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