- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：
|
項目 |
明細 |
|
|
產品型號 |
CY-MSZ300S-II-DCDC-SS |
|
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
|
整機功率 |
2KW |
|
|
系統真空 |
≦5×10-4Pa |
|
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
φ140mm |
|
加熱溫度 |
≦500℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
可調轉速 |
≦20rpm |
|
|
磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
|
冷卻模式 |
循環水冷 |
|
|
水流大小 |
不小于10L/Min |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ300mm，高度300mm |
|
腔體材質 |
SUU304不銹鋼 |
|
|
觀察窗口 |
直徑φ100mm |
|
|
開啟方式 |
上頂開式 |
|
|
氣體控制 |
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
|
|
真空系統 |
配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S |
|
|
膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
|
|
濺射電源 |
配直流電源,功率500W*2 |
|
|
控制系統 |
CYKY自研專業級控制系統 |
|
|
設備尺寸 |
600mm×650mm×1080mm |
|
|
設備重量 |
145kg |
|
