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本設備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。
設備采用下置靶設計，和上置靶相比這種設計能夠更好的規避屏蔽罩因長時間鍍膜而產生的薄膜碎片脫落的問題，可以更有效的保護樣品。
同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ180X-I-DC-SS |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 215mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
SUU304不銹鋼 |
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開啟方式 |
上頂開式 |
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真空系統 |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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系統真空 |
1.0×10-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源一套 |
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輸出功率 |
300W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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