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本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。
單靶磁控鍍膜儀技術參數：
桌面型單靶磁控鍍膜儀
樣品臺
尺寸
φ100mm
加熱
*高500℃
轉速
0-20可調
磁控濺射靶
數量
2” x1
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統
機械泵
旋片泵
分子泵
渦輪分子泵
真空測量
電阻規+電離規
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
極限真空
1.0E-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
機械泵1.1L/s 分子泵600L/s
電源配置
數量
直流電源 x1
*大輸出功率
直流電源150W
其他
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
2kW
整機尺寸
550mm X 350mm
X400mm
