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本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
傾斜樣品臺式單靶磁控技術參數：
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產品名稱 |
傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ180-60Q-I-DC-Q |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ60mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X215mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
高純石英 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統 |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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系統真空 |
1.0×10-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源一套 |
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輸出功率 |
500W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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