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- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備
技術(shù)參數(shù)：
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項(xiàng)目 |
明細(xì) |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機(jī)功率 |
4KW |
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極限真空度 |
5x10-4Pa |
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載樣臺(tái)參數(shù) |
尺寸 |
100mm x 100mm |
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往復(fù)行程 |
200mm |
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磁控濺射頭參數(shù) |
數(shù)量 |
2個(gè)2”磁控濺射頭 |
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冷卻方式 |
水冷，所需流速10L/min |
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水冷機(jī)規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ500mm X 490mm H |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
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觀察窗口 |
φ100mm |
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開(kāi)啟方式 |
前開(kāi)門(mén)式 |
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氣體流量控制器 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S |
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膜厚儀 |
石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
直流電源1臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 |
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操作方式 |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
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整機(jī)尺寸 |
1090mm X 900mm X 1250mm |
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整機(jī)重量 |
350kg |
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