本設備的蒸發源共兩組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，可*大支持300A的大電流，加熱溫度*高可達1800℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優越，是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的必備之選。

技術參數：

多源高真空蒸發鍍膜儀
型號	CY-EVH325-Ⅱ-HH-SS
樣品臺	尺寸	*大支持φ150mm樣品
	高度	上下70mm可調
蒸發源	數量	鎢舟x2
真空腔體	腔體尺寸	φ325x600mm
	觀察窗口	前置φ100mm
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
膜厚控制	晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀
真空系統	前級泵	雙極旋片泵
	抽氣接口	KF16
	次級泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	CF160
	真空測量	電阻+電離 復合真空規
	排氣速率	機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
	極限真空	1.0E-5Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	旋片泵：1.1L/S
控制系統	PLC自動控制  操作界面：觸控屏+操作面板
其他	供電電壓	AC380V,50Hz
	整機尺寸	1000mm X900mm X 1500mm
	整機重量	350kg
	整機功率	5kW