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- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
設(shè)備技術(shù)參數(shù)
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使用條件 |
環(huán)境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar |
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真空室尺寸 |
蒸發(fā)室尺寸：φ500×H500(㎜) |
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電子槍 |
新型電子槍1套，6穴坩堝 |
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樣品轉(zhuǎn)盤(pán) |
樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃ |
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系統(tǒng)真空度 |
極限真空 |
經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa |
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抽氣速率 |
從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa |
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系統(tǒng)漏率 |
整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa |
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抽真空系統(tǒng) |
FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣 |
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鍍膜監(jiān)測(cè) |
采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè) |
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鍍膜厚度 |
鍍膜厚度的不均勻度≤6% |
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