產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
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- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
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- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
產品詳情
簡單介紹：
該設備用于制備多組份、多層復合的致密的金屬/非金屬、金屬氧化物/氮化物/氮氧化合物、非金屬氧化物/氮化物/氮氧化合物等厚度均勻的薄膜材料，其中靶材可為金屬/非金屬的單組份或多組份材料（包含磁性靶材材料），也可為金屬/非金屬化合物的單組份或多組份材料。樣品能夠在該設備系統真空室內的薄膜沉積處原位退火處理。此外，采用磁控濺射鍍膜后的樣品可以進行硒化、硫化處理。
可應用于材料學、物理學、化學、微電子、光電子、能源、催化、納米技術等領域。
詳情介紹：
技術規格：
本系統由進樣室、硫化/硒化室、兩個濺射室（3靶位+4靶位）、濺射控制系統、加熱系統、真空測量系統、泵抽系統、樣品傳輸控制系統、氣氛控制系統、水循環制冷系統、完成樣品制備過程電控系統及電腦/觸摸屏程序控制系統等組成；
系統配置可在真空環境條件下移動樣品的機械手臂，實現樣品在腔體之間的移動,樣品在腔室之間傳遞動作完成后15分鐘內相關腔室真空度恢復到樣品傳遞之前的水平；
兩濺射室可分別實現3靶位和4靶位的靶材共濺射，相互之間電源等系統無相互干擾，各靶材單獨濺射不受其他靶材的影響，且不污染其它靶材；
系統具有完善的自動保護功能,其中硒化/硫化爐的抽氣入口具有防蒸汽侵蝕保護措施；
各室結構材料均采用上等不銹鋼材料，氬弧焊接和表面拋光處理。
