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        真空鍍膜技術的應用領域

        日期:2025-05-10 07:09
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        摘要:1.在裝飾品方面 隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。 2.在刀具、模具等金屬切削加工工具方面 在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。 (1)金黃色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是**代應用廣泛的硬質層材料。 (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂...

        1.在裝飾品方面


               隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。


        2.在刀具、模具等金屬切削加工工具方面


               在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。
            (1)金黃色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是**代應用廣泛的硬質層材料。
            (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。

            (3)鈷銅色的,是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。


        3.在建筑玻璃和汽車玻璃上


               建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射,普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外,但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經濟的發展,普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求,而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區降低室內溫度的要求;而低輻射膜則能滿足高緯度地區充分接受太陽輻射能量和*大限度阻止室內熱量外流的要求。在玻璃上,鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃,這種工藝在汽車玻璃上有很好的應用。


        4.在平板顯示器中


               所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說,沒有薄膜技術,就沒有平板顯示器件。


        5.在太陽能利用方面


               當需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。


        6.在防偽技術中


                防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。


        7.在飛機防護涂層方面


              飛機的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產生“鎘脆”,甚至引起“空難”。1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。


        8.在光學儀器中


                人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術,鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。


        9.在信息存儲領域中


                薄膜材料作為信息記錄于存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。


        10.在傳感器方面


                 在傳感器中,多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表面、界面的性質,需要盡量增大其面積,且能工業化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。


        11.在集成電路制造中


                晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。

        文章來源:真空技術與設備網


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